半導(dǎo)體產(chǎn)品車(chē)間廢氣煙霧凈化達(dá)標(biāo)排放

　　山東某電子廠通過(guò)車(chē)間廢氣凈化工藝找到我們，需要我們對(duì)其工廠車(chē)間的粉塵煙霧做出有效處理。

　　　半導(dǎo)體主要成分：半導(dǎo)體行業(yè)廢氣主要為有機(jī)廢氣和酸堿廢氣兩類。有機(jī)類有：非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等；酸堿類有：氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。

　　半導(dǎo)體酸堿性廢氣：

　　工藝流程： 酸/堿性廢氣→酸/堿式洗滌塔→離心風(fēng)機(jī)→煙囪（達(dá)標(biāo)排放）

　　半導(dǎo)體有機(jī)類廢氣VOCs

　　收集廢氣→沸石轉(zhuǎn)輪吸附裝置→TO直燃式焚燒爐

　　同時(shí)整套裝置安q、可靠、無(wú)任何二次污染。

　　由于半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)操作室清潔度要求極高，通常使用風(fēng)機(jī)抽取工藝過(guò)程中揮發(fā)的各類廢氣，因此半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。

　　半導(dǎo)體廢氣具有排風(fēng)量大、濃度低的特點(diǎn)。針對(duì)電子行業(yè)的廢氣排放特點(diǎn)，采用相應(yīng)的廢氣末端治理技術(shù)，主要還是吸附法或焚燒法。

　　吸附法：廢氣處理設(shè)備是活性炭吸附脫附+催化燃燒CO設(shè)備，活性炭屬非極性吸附劑，對(duì)非極性化合物有較強(qiáng)的吸附能力，一般可凈化低濃度VOCs；

　　燃燒法：廢氣處理設(shè)備是沸石轉(zhuǎn)輪+蓄熱式焚燒爐RTO設(shè)備，由廢氣旋轉(zhuǎn)輪的上游側(cè)進(jìn)入濃縮轉(zhuǎn)輪的吸附區(qū)，使VOCs得到濃縮，在經(jīng)脫附燃燒處理。

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　　小知識(shí)：

　　目前沒(méi)有專門(mén)關(guān)于半導(dǎo)體行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)，一切依據(jù)《中華人民共和國(guó)環(huán)境保護(hù)法》（2015-01-01）《環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3095-2012）《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB16297-1996）等相關(guān)文件。

　　江蘇省:《半導(dǎo)體行業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB32/3747-2020)

　　地方方面電子工業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)：

　　北京《大氣污染物綜合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)》（DB11/501-2007）中相關(guān)規(guī)定半導(dǎo)體及電子設(shè)備制作VOCs的限制值主導(dǎo)產(chǎn)品為50mg/m3,新創(chuàng)建企業(yè)為20mg/m3.

　　天津《工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物排出控制標(biāo)準(zhǔn)》（DB12/524-2014）。相關(guān)規(guī)定電子工業(yè)VOCs高允許排出濃度值為80mg/m3。

　　上?！栋雽?dǎo)體行業(yè)污染物環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)》（DB31/374-2006）。相關(guān)規(guī)定VOCs允許排出濃度值為100mg/m3。

　　2017年廣東《電子工業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)》。相關(guān)規(guī)定VOCs允許排出濃度值為30mg/m3.

　　電子產(chǎn)品車(chē)間粉塵煙霧凈化達(dá)標(biāo)排放